一、仪器设备实物图
二、仪器设备信息
1、仪器设备名称
纳米器件电极及薄膜制备仪
2、仪器设备型号及厂家
型号：VZZ-300S
厂家：北京微纳真空技术有限公司
3、仪器设备用途
该设备可制备金属纳米器件电极，也可用来制备非金属、化合物及有机物薄膜等,广泛应用于高校制备纳米器件测试电极制备、器件结构制造等。适合于太阳能电池、有机EL、LED 显示管、纳米功能器件研究与开发领域。可以为材料、物理、化学、电子、能源等相关学科提供实验支撑，制备金属、有机等薄膜。
4、仪器设备当前位置
哈工大科学园 科技创新大厦
5、联系地址、电话
哈工大科学园科技创新大厦 K710室
0451-86413281（星期一至星期五 8：00-17：00）
6、仪器设备的优点及特点（亮点）
1.真空腔体与真空系统采用完全封闭的系统框架设计，使用安全；2蒸镀腔体采用SUS304不锈钢材料，腔体内表面包括屏蔽板全部镜面抛光，真空系统采用600升/秒大抽速分子泵，可以获得洁净的真空环境和良好的真空度；3.基片台公转，转速0-25rpm可调，基片台配有加热功能，可制备更好薄膜；4.核心部件膜厚仪采用inficon品牌，分辨率±0.1A。）
仪器设备技术规格（纳米器件电极及薄膜制备仪）
设备名称 | 技术参数 |
纳米器件电极及薄膜制备仪 | 真空腔室：净空间尺寸Φ300×H450mm； |
真空系统：分子泵抽速600L/s，双级旋片泵抽速6L/s，全量程数显复合真空计量程：1×105～1×10-5Pa； | |
真空极限：2.3×10-7Torr； | |
抽速：抽至3.0×10-4Torr≤15min； | |
基片台：最大可处理基片不小于4英寸，基片台配有气动挡板，随设备提供一块掩膜板；基片台旋转：旋转速度0-25转/分连续可调； | |
蒸发源：3组蒸发源，源间配隔离挡板，2源上有独立挡板； | |
蒸发电源：2台蒸发电源，蒸发电源功率不小于2.2KW，电流可调精度不大于0.2安培 | |
速率和膜厚监控：采用石英晶振膜厚监控仪在蒸镀过程中实时监测蒸发速率，监控膜厚；厚度监测范围：1Å～9999Å，分辨率±0.1Å；速率监测范围：0.1Å～99.9Å /s，分辨率±0.1Å；配置1个探头，10片6MHz原装晶振片； | |
水冷系统：水冷部件有分子泵、蒸发电极、膜厚仪探头、磁流体等，整机配水流报警保护系统；配高精度冷却循环水机1台，控温范围：5～25℃，控温精度±0.1℃； | |
其它：配齐该镀膜设备的外围设备：冷却循环水机1台，静音气泵1台，所需试验蒸镀材料；保证设备就位后即能开展工作；镀膜设备及外围设备总占地面积不超过1平米 |